Atonarp宣布推出创新计量平台Aston 旨在提高半导体制造

北京—2021年7月16日—半导体、医疗保健和制药行业分子传感和诊断产品的领先制造商阿托那普(Atonarp)今天宣布推出阿斯顿(Aston)，这是一个创新的原位半导体计量平台，集成了等离子体电离源。

阿斯顿是半导体生产测量领域的一次重要进化，实现了原位分子过程控制，使现有工厂运行更高效，促进了产量增加。阿斯顿是专门为半导体生产而设计的。作为一个强大的平台，阿斯顿可以替代许多传统工具，在一系列综合应用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、电介质和导电蚀刻和沉积、腔室清洁、腔室匹配和消化。

“有了阿斯顿，一些应用中的单位流程吞吐量可以提高40%以上，这是一个很大的提升。”对于一个典型的晶圆厂来说，即使整体产能增加1%，年产量也能增加几千万美元。“在现有的生产工艺工具中加入阿斯顿可以在短短6至8周内实现更高的产量，而安装新的生产设备则需要长达一年的时间，”阿托纳尔普公司CEO、CTO兼创始人Prakash Murthy表示。这将从本质上帮助厂商提高生产水平，有助于解决目前半导体晶圆厂产能不足的问题。"

快速且可操作的终点检测(EPD)是运行半导体工具和晶圆厂的最有效方式。到目前为止，三元乙丙橡胶不能部署在许多工艺步骤中，因为所需的原位传感器无法承受苛刻的工艺或腔室清洁化学品，或者可能因冷凝物沉积而堵塞。因此，工厂必须设定一个特定的时间，以确保流程完全执行。相反，阿斯顿优化了生产，包括腔室清洁，通过准确检测一个过程何时结束，这可以将所需的清洁时间减少80%。

阿斯顿能够抵抗腐蚀性气体和气体污染物冷凝物。与现有解决方案相比，它更坚固，并且具有独立的双电离源(经典电子碰撞电离源和无灯丝等离子体电离器)，因此它可以在半导体生产的恶劣条件下可靠运行。这使得阿斯顿能够就地使用，即在传统电子离子发生器会迅速腐蚀和失效的恶劣环境中使用。

与传统的质量分析仪相比，阿斯顿的服务间隔延长了100倍。它具有自清洁能力，可以去除某些过程中产生的冷凝水沉积物。

阿斯顿可以独立产生等离子体，所以不管有没有工艺等离子体都可以正常运行。与光发射光谱法相比，这具有明显的优势，这需要等离子体源来操作，这使得阿斯顿成为ALD和一些金属沉积工艺的理想选择，这些工艺可能需要使用弱脉冲等离子体或不需要等离子体进行处理。

阿斯顿还可以通过提供定量的、可操作的实时数据来提高过程一致性，并可以通过人工智能来促进高性能的机器学习，以满足最苛刻的过程应用。此外，得益于实时数据统计分析和腔室管理的高精度、高灵敏度和高重复性，生产线和产品良率也得到了提升。

阿斯顿主要面向化学气相沉积(CVD)和蚀刻应用，两者的年增长率均超过13%。组装时，光谱仪可以安装在新的腔室中，也可以安装在已经运行的现有腔室中。

阿斯顿也可以和韩国ATI公司开发的智能压力控制器Psi结合使用。经过几个月的全面技术可行性评估，该组合解决方案最近被出售给三星，用于先进的过程控制应用。

阿斯顿可以直接在Atonarp或通过Atonarp的全球合作伙伴网络进行评估和订购。